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簡要描述：半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組是確保工藝穩(wěn)定性和精度的關鍵設備，尤其在先進制程（如3nm以下）中，低溫蝕刻（如-30°C至-100°C）對溫度控制要求極為嚴苛。
產(chǎn)品型號： 廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-07-18訪 問 量：8詳細介紹
半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組選型，價格，方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通，多案例供參考。
康士捷生產(chǎn)的工業(yè)控溫設備有高溫型（5℃～35℃）、中溫型（-5℃～-40℃）、低溫型（-40℃～-80℃）、超低溫型（-150℃～-80℃）、冷熱兩用型（-150℃～+300℃）等系列產(chǎn)品供貴司選用。制冷量大小都有，有防爆型，防腐型，撬裝式，變頻型等。接受非標定做。溫度穩(wěn)定性±0.1℃等可選。
以下列出部分參數(shù)，貴司參數(shù)溝通選型后確認。
半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組
典型溫區(qū)：
常規(guī)蝕刻：-30°C～-60°C（如硅蝕刻、氧化物蝕刻）。
深低溫蝕刻：-60°C～-100°C（如高深寬比結構、低溫等離子體蝕刻）。
核心要求：
溫度穩(wěn)定性：±0.1°C（避免反應速率波動）。
快速響應：降溫速率≥5°C/min（工藝切換需求）。
潔凈度：無油污染（防止腔體污染）。
適用場景：-40°C～-100°C，中等冷量需求（5～50kW）。
工質組合：
高溫級：R507A/R448A（-40°C蒸發(fā)）。
低溫級：R23/R14（-80°C以下需R14或氦氣）。
優(yōu)勢：連續(xù)運行、能效比高（COP＞1.0@-80°C）。
適用場景：超低溫（-150°C以下）、極小冷量（如科研級蝕刻）。
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產(chǎn)品咨詢
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